北京
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国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“光学测量系统”的专利，公开号CN122910443A，申请日期为2025年3月。
专利摘要显示，公开了一种用于测量衬底的表面拓扑的光学测量系统。光学测量系统包括：光投影器，被配置为将光束投影到衬底的表面；和光检测器，被配置为接收来自光投影器的已经从表面反射的光束。光学测量系统还包括反射镜中继器，反射镜中继器包括凸反射镜和凹反射镜，被布置成在基本上径向方向上并且至少部分地在横向方向上反射光束，以便在凹反射镜与凸反射镜之间引起多次横向反射，多次横向反射延长光束在光投影器与光检测器之间的路径长度，并且增大光学测量系统在表面处的视场。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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