北京
国家知识产权局信息显示，湖北光安伦芯片有限公司申请一项名为“一种多模干涉器”的专利，公开号CN122902005A，申请日期为2026年7月。
专利摘要显示，本发明涉及多模干涉器技术领域，提供了一种多模干涉器，包括衬底层，所述衬底层上沿长度方向依次设置有输入波导结构、多模干涉结构以及输出波导结构，所述多模干涉结构靠近所述输出波导结构的端面的宽度大于所述多模干涉结构靠近所述输入波导结构的端面的宽度。本发明的一种多模干涉器，通过提升靠近输出波导结构的端面宽度，降低了低精度光刻工艺下临近波导的桥连、缺陷等问题，增加工艺容差，同时又避免了多模干涉区宽度整体带来的长度显著增加，实现了芯片尺寸和工艺匹配设计的双重优化，适用于在低精度光刻工艺条件下，平衡输出波导间距与多模干涉区长度之间的矛盾结构设计。
天眼查资料显示，湖北光安伦芯片有限公司，成立于2016年，位于鄂州市，是一家以从事仪器仪表制造业为主的企业。企业注册资本10000万人民币。通过天眼查大数据分析，湖北光安伦芯片有限公司参与招投标项目8次，专利信息61条，此外企业还拥有行政许可11个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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