北京
国家知识产权局信息显示，北京北方华创微电子装备有限公司申请一项名为“堆叠结构的刻蚀方法及半导体工艺设备”的专利，公开号CN122892473A，申请日期为2026年7月。
专利摘要显示，本申请提供了一种堆叠结构的刻蚀方法及半导体工艺设备，属于半导体技术领域，该刻蚀方法包括：执行第一刻蚀步，向工艺腔室通入第一工艺气体，控制工艺腔室的抽气阀门开度为第一开度，第一工艺气体包括刻蚀气体；循环执行第二刻蚀步和第三刻蚀步至少一次，其中，第二刻蚀步包括向工艺腔室通入第二工艺气体，控制工艺腔室的抽气阀门开度为第二开度，第二工艺气体包括稀释气体，第二开度大于第一开度；第三刻蚀步包括向工艺腔室通入第三工艺气体，控制工艺腔室的抽气阀门开度为第三开度，第三工艺气体包括刻蚀气体，第三开度小于第二开度。本申请可提升选择性刻蚀堆叠结构中牺牲层和功能层的选择比和均匀性。
天眼查资料显示，北京北方华创微电子装备有限公司，成立于2001年，位于北京市，是一家以从事电气机械和器材制造业为主的企业。企业注册资本114153.708311万人民币。通过天眼查大数据分析，北京北方华创微电子装备有限公司共对外投资了8家企业，参与招投标项目1528次，财产线索方面有商标信息74条，专利信息5977条，此外企业还拥有行政许可338个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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