北京
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国家知识产权局信息显示，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司申请一项名为“一种喷淋板及一种半导体器件加工设备”的专利，公开号CN122879675A，申请日期为2026年8月。
专利摘要显示，本发明提供了一种喷淋板和一种半导体器件加工设备。上述喷淋板包括进气块、喷淋面板、加热组件和冷却组件。上述进气块的顶部设置有进气口。上述喷淋面板位于在进气块的下方，其设置有多个出气孔。该加热组件设置在进气块上靠近喷淋面板的一端。该冷却组件设置在进气块上靠近进气口的一端，其中，冷却组件包括环绕进气口的冷却管道，冷却管道内部流通冷却液，并设有至少一个凸块。
天眼查资料显示，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司，成立于2023年，位于沈阳市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本336201.367794万人民币。通过天眼查大数据分析，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司参与招投标项目39次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息583条，此外企业还拥有行政许可19个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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