北京
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2026年10月8日，华海清科股份有限公司（简称“华海清科”）宣布完成新一轮战略投资。此次投资旨在加强华海清科在化学机械抛光（CMP）技术及设备领域的研发实力，加速产品创新与市场拓展。
华海清科成立于2013年4月10日，是一家专注于化学机械抛光技术及设备研发的高新技术企业。公司主要产品包括CMP设备、润滑膜厚与摩擦系数测量仪、膜厚测量仪以及抛光清洗一体系统等，广泛应用于电路制造、三维封装、微机电系统制造以及晶圆平坦化等领域。凭借先进的技术和稳定的产品性能，华海清科已成为国内半导体设备领域的重要供应商之一。
此次战略投资的完成，将进一步增强华海清科的研发能力和市场竞争力，推动公司在半导体设备领域的持续创新。未来，华海清科将继续聚焦核心技术研发，提升产品性能，为全球半导体产业提供更优质的解决方案。
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