北京
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国家知识产权局信息显示，盐城艾肯科技有限公司申请一项名为“一种光刻胶及制备方法”的专利，公开号CN122883408A，申请日期为2026年7月。
专利摘要显示，本申请涉及光刻胶技术领域，具体公开了一种光刻胶及制备方法。该光刻胶由基体成膜树脂、多官能团丙烯酸酯活性单体、多官能团环氧活性单体、自由基光引发剂、光致产酸剂、自梯度光响应酸介导剂、潜伏型酸扩散调节剂、混合溶剂及功能助剂复配而成，基体成膜树脂为侧链接枝羧基、丙烯酸酯双键与环氧基团的苯乙烯‑丙烯酸酯共聚物。制备方法为先配制树脂基液，再将光敏功能组分预分散后滴入基液匀化，最终经两级过滤避光封装制得。该光刻胶可应用于印制电路板、柔性电子的厚膜图形转移工艺，能够改善厚膜体系酸分布均匀性，提升光刻图案分辨率与侧壁形貌质量，兼具优异耐蚀刻性能与低内应力特性，制备工艺可保障组分分散均匀，产品批次稳定性良好。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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