北京
国家知识产权局信息显示，武汉阿基米德半导体有限公司申请一项名为“一种激光开槽毛刺抑制方法及装置”的专利，公开号CN122851067A，申请日期为2026年8月。
专利摘要显示，本发明提供一种激光开槽毛刺抑制方法及装置，涉及开槽毛刺抑制技术领域；该方法包括根据工件上目标槽口的宽度确定左侧边界预切线、右侧边界预切线以及位于所述左侧边界预切线和所述右侧边界预切线之间的主体去除区域；沿所述左侧边界预切线和所述右侧边界预切线执行第一激光扫描，以在工件上形成浅层隔离槽；对边界不超过所述左侧边界预切线和右侧边界预切线的目标区域执行第二激光扫描，以形成所述目标槽口的主体；对主体去除区域与左侧边界预切线、右侧边界预切线之间的留边区域执行第三激光扫描，以形成目标槽口；以及，提供朝向所述目标槽口内部的辅助气流；本申请可有效抑制毛刺形成，提高成品质量与精度。
天眼查资料显示，武汉阿基米德半导体有限公司，成立于2026年，位于武汉市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉阿基米德半导体有限公司专利信息3条。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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