北京
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国家知识产权局信息显示，三星显示有限公司和东友精细化工有限公司申请一项名为“蚀刻剂组合物、图案化金属层的方法和使用蚀刻剂组合物生产显示装置的方法”的专利，公开号CN122856187A，申请日期为2026年3月。
专利摘要显示，本申请涉及蚀刻剂组合物、图案化金属层的方法和使用蚀刻剂组合物生产显示装置的方法。蚀刻剂组合物包括约3.0 wt%至约15.0 wt%的过硫酸铵、约0.1 wt%至约5.0 wt%的无机酸、约0.1 wt%至约2.0 wt%的含氟铵盐、约0.01 wt%至约2.0 wt%的四烷基氯化铵、约0.1 wt%至约3.0 wt%的含氨基的磺酸、约0.1 wt%至约5.0 wt%的含烷基的磺酸、约0.1 wt%至约2.0 wt%的4氮环状化合物(例如，环中含有四个氮原子的杂环化合物)和余量的水使得蚀刻剂组合物的总重为100 wt%。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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