北京
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国家知识产权局信息显示，苏州大学、苏州赛伍应用技术股份有限公司申请一项名为“一种柔性陶瓷纤维抛光垫及其应用”的专利，公开号CN122851463A，申请日期为2026年9月。
专利摘要显示，本发明提供了一种柔性陶瓷纤维抛光垫及其应用，涉及超精密加工与化学机械抛光（CMP）技术领域。该抛光垫的功能层由陶瓷纤维与柔性纤维构筑为具有三维连通孔隙的多孔网络结构，并对陶瓷纤维进行表面柔性化改性处理。三维连通孔隙可实现抛光液均匀渗透与稳定输运，多孔网络结构保证整体支撑刚度；改性陶瓷纤维在维持自身高刚性、防止抛光垫形变的同时，钝化纤维微观棱角，弱化界面硬性接触，避免工件产生划痕与微损伤。本发明解决了传统抛光垫难以兼顾结构刚性与低抛光损伤的问题，适用于球状工件及异形硬质材料工件的精密抛光加工。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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