北京
国家知识产权局信息显示，浙江大华技术股份有限公司申请一项名为“铭牌缺陷等级的确定方法、装置、存储介质及电子设备”的专利，公开号CN122867123A，申请日期为2026年7月。
专利摘要显示，本发明公开了一种铭牌缺陷等级的确定方法、装置、存储介质及电子设备，其中，该方法包括：确定目标图像中包括的目标铭牌以及目标铭牌的缺陷类别，其中，目标铭牌为待确定缺陷等级的铭牌；确定目标铭牌的文本信息的文本信息缺失度；基于目标铭牌以及缺陷类别确定目标铭牌的目标缺陷程度；基于文本信息缺失度以及目标缺陷程度确定目标铭牌的缺陷等级。通过本申请，解决了确定铭牌的缺陷等级准确率低的问题，进而达到了提高确定铭牌的缺陷等级准确率的效果。
天眼查资料显示，浙江大华技术股份有限公司，成立于2001年，位于杭州市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本326926.2074万人民币。通过天眼查大数据分析，浙江大华技术股份有限公司共对外投资了71家企业，参与招投标项目10353次，财产线索方面有商标信息326条，专利信息11440条，此外企业还拥有行政许可408个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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