北京
国家知识产权局信息显示，芯联越州集成电路制造（绍兴）有限公司申请一项名为“制造惯性器件的方法”的专利，公开号CN122831287A，申请日期为2026年6月。
专利摘要显示，本发明的实施例提供了一种制造惯性器件的方法，该方法包括：形成底部器件结构，包括：将第一多晶硅层键合至第一衬底上；沿由第一衬底指向第一多晶硅层的第一方向，自第一多晶硅层的顶面形成具有第一厚度的第一氧化层；沿第一方向，自第一氧化层的顶面形成具有第二厚度的第二多晶硅层；在第二多晶硅层的顶面进行第一蚀刻以形成第一空腔，第一蚀刻停止在第一氧化层的顶面，在第一空腔的底面继续对第一氧化层进行第二蚀刻，第二蚀刻停止在第一多晶硅层的顶面；提供顶部电路结构，并将顶部电路结构与底部器件结构连接。本发明的目的在于至少使得所形成的空腔深度具有良好的均匀性，从而提升惯性器件的性能。
天眼查资料显示，芯联越州集成电路制造（绍兴）有限公司，成立于2021年，位于绍兴市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本398282.0957万人民币。通过天眼查大数据分析，芯联越州集成电路制造（绍兴）有限公司参与招投标项目71次，专利信息165条，此外企业还拥有行政许可26个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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