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国家知识产权局信息显示，苏州大学、苏州维业达科技有限公司、维业达科技（江苏）有限公司取得一项名为“一种一体黑导电膜及电子设备”的专利，授权公告号CN224803617U，申请日期为2025年9月。
专利摘要显示，本实用新型涉及光电技术领域，特别是一种一体黑导电膜及电子设备。一体黑导电膜包括基材层及设置于所述基材层上的第一结构层，所述第一结构层远离基材层的一侧上设有多个第一图形化凹槽，所述第一图形化凹槽内包括至少一层实现一体黑效果的着色层和与所述着色层相邻的导电层，所述着色层吸附在所述第一图形化凹槽的内表面和/或吸附在所述导电层表面上，用于降低导电层表面的反射率。利用毛细吸附效应，着色层全包围于导电层或半包围于导电层，导电层表面上的着色层还可作为保护层，具有抗氧化、硫化等作用。可根据实际需求来设置着色层的相对位置、厚度以及色调，制程简单、降低了制作成本、绿色环保，可以满足大规模产业化应用。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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