北京
国家知识产权局信息显示，深圳中科飞测科技股份有限公司申请一项名为“一种光刻工艺参数优化方法、装置、电子设备和存储介质”的专利，公开号CN122815794A，申请日期为2026年7月。
专利摘要显示，本申请提供一种光刻工艺参数优化方法、装置、电子设备和存储介质，该方法包括：确定晶圆上多个量测目标的位置及其关键尺寸目标值和公差上下限，以及通过FEM实验获取各目标在不同焦距和曝光能量下的关键尺寸数据；根据各目标数据，确定同时满足所有目标公差要求的焦距和曝光能量公共工艺窗口；在公共工艺窗口内，以各目标关键尺寸与目标值的加权偏差最小化为目标，分步确定全局最佳焦距和全局最佳曝光能量；再基于全局最佳参数和预设曝光宽容度确定多目标公共焦深。本申请将传统单目标串行分析转变为多目标协同优化，有效解决了多图形工艺参数冲突问题，提升了工艺开发效率和参数稳健性。
天眼查资料显示，深圳中科飞测科技股份有限公司，成立于2014年，位于深圳市，是一家以从事仪器仪表制造业为主的企业。企业注册资本35016.3237万人民币。通过天眼查大数据分析，深圳中科飞测科技股份有限公司共对外投资了12家企业，参与招投标项目411次，财产线索方面有商标信息303条，专利信息1147条，此外企业还拥有行政许可45个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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