北京
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国家知识产权局信息显示，中微半导体设备（上海）股份有限公司申请一项名为“一种磁控管运动的控制方法”的专利，公开号CN122800520A，申请日期为2025年3月。
专利摘要显示，本发明公开了一种磁控管运动的控制方法，应用于磁控溅射源，所述磁控溅射源包括磁控管及驱动装置，所述驱动装置用于控制磁控管自转并绕靶材中心的公转，以对整个靶材区域进行周期性扫描；改变磁控管的公转角速度和自转角速度，以使磁控管在一个运动周期内的运行轨迹不重叠。本发明能够通过优化磁控管的运行轨迹和磁场分布，实现靶材的高效利用和薄膜厚度的均一性。
天眼查资料显示，中微半导体设备（上海）股份有限公司，成立于2004年，位于上海市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本95784.2348万人民币。通过天眼查大数据分析，中微半导体设备（上海）股份有限公司共对外投资了31家企业，参与招投标项目92次，财产线索方面有商标信息85条，专利信息1753条，此外企业还拥有行政许可89个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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