北京
国家知识产权局信息显示，合肥维信诺科技有限公司申请一项名为“等离子体增强化学气相沉积设备、无机封装层的制备方法”的专利，公开号CN122751178A，申请日期为2025年3月。
专利摘要显示，本申请涉及一种等离子体增强化学气相沉积设备、无机封装层的制备方法。该等离子体增强化学气相沉积设备包括：反应腔室，包括腔室主体、盖体以及四个连接板，盖体盖设且连接于腔室主体的上端；上电极板和下电极板，上电极板的四周侧边一一对应地通过四个连接板与盖体连接，上电极板设有四组清洁孔组和多个匀流孔，四组清洁孔组分别位于上电极板的四个拐角区域；四个分隔结构，与四个拐角区域一一对应设置，每个分隔结构的上端和下端分别与盖体和上电极板连接；以及五组进气组件，分别与盖体连接。该等离子体增强化学气相沉积设备，对反应腔室内部进行清洁时，能够有效分解反应腔室的拐角处沉积的反应副产物。
天眼查资料显示，合肥维信诺科技有限公司，成立于2018年，位于合肥市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本2200000万人民币。通过天眼查大数据分析，合肥维信诺科技有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目997次，专利信息4629条，此外企业还拥有行政许可43个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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