北京
国家知识产权局信息显示，杭州道明科创新材料有限公司申请一项名为“超低延迟补偿的相位补偿膜的制造方法及相位补偿膜”的专利，公开号CN122755148A，申请日期为2026年6月。
专利摘要显示，本发明提供一种超低延迟补偿的相位补偿膜的制造方法及相位补偿膜，解决了现有涂布法制得的相位补偿膜无法满足LCoS面板残余相位延迟补偿所需精度的问题。本发明提供的一种超低延迟补偿的相位补偿膜，以满足对LCoS面板进行精准补偿时，所需要的面内相位延迟量，包括：至少两层光学功能膜，所述光学功能膜的面内相位延迟量为100‑300nm；所述至少两层光学功能膜通过光学胶贴合，且相邻两层光学功能膜的光轴夹角为87°‑90°；所述相位补偿膜的总等效面内相位延迟量为1‑15nm。
天眼查资料显示，杭州道明科创新材料有限公司，成立于2018年，位于杭州市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本23000万人民币。通过天眼查大数据分析，杭州道明科创新材料有限公司参与招投标项目1次，专利信息16条，此外企业还拥有行政许可9个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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