北京
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国家知识产权局信息显示，3M创新有限公司申请一项名为“转印膜、光学膜、光学波导及其制作方法”的专利，公开号CN122766811A，申请日期为2025年2月。
专利摘要显示，一种转印膜包括具有离型表面的离型衬垫和设置在离型表面上的光学膜。光学膜包括：丙烯酸酯层，该丙烯酸酯层设置在离型表面上，并且具有在约10nm至1500nm的范围内的平均厚度；多层抗反射叠层，该多层抗反射叠层设置在丙烯酸酯层上，与离型衬垫相对；和多层光栅，该多层光栅设置在多层抗反射叠层上，与丙烯酸酯层相对。光学波导可通过以下方式来制作：将光学膜从转印膜转印到光学芯，然后移除离型衬垫。在已经将光学膜转印到光学芯之后，可从多层抗反射叠层移除丙烯酸酯层。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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