北京
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国家知识产权局信息显示，应用材料公司申请一项名为“来自化学机械抛光中的原位监测系统缩放信号的处理”的专利，公开号CN122719644A，申请日期为2025年1月。
专利摘要显示，在抛光期间透过原位涡流监测系统监测导电层。这包括跨越基板反复扫描所述原位涡流监测系统的传感器，使得每次扫描产生提供轨迹的一系列原始信号值，并且所述重复扫描提供一系列轨迹。对每个轨迹进行缩放以产生从相同的起始时间或起始位置延伸到相同的结束时间或结束位置的缩放轨迹。透过计算从所述系列缩放轨迹中多个连续缩放轨迹的移动平均来产生一系列平均轨迹。基于一系列平均轨迹产生一系列估计厚度值。基于一系列估计厚度值检测抛光终点或修改抛光参数。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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