北京
国家知识产权局信息显示，上海贺东电子材料有限公司申请一项名为“显影液涂布系统及涂布方法”的专利，公开号CN122672274A，申请日期为2026年5月。
专利摘要显示，本公开涉及半导体集成电路制造中的涂胶显影设备领域，特别是一种显影液涂布系统及涂布方法，所述涂布系统包括用于支撑晶圆的支撑组件和扫描式显影液喷嘴，显影液喷嘴包括喷嘴本体，喷嘴本体上部连接有显影液进管，喷嘴本体内设有储液腔，显影液进管与储液腔连通，储液腔内设有分流件，分流件的上表面呈梯度设置，其中部高度低于两侧高度，分流件下端连接有喷头。本公开的显影液涂布系统，采用液帘长度可控的扫描式显影液喷嘴，其液帘长度可根据晶圆位置做出适应性变化，在喷吐过程中适时调整液帘的长短，进而减少每片晶圆显影所需的显影液量，避免显影液的浪费，从而降低生产成本。
天眼查资料显示，上海贺东电子材料有限公司，成立于2021年，位于上海市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本11240万人民币。通过天眼查大数据分析，上海贺东电子材料有限公司参与招投标项目1次，专利信息43条，此外企业还拥有行政许可8个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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