北京
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国家知识产权局信息显示，华南师范大学;深圳市国华光电科技有限公司申请一项名为“一种微型高精度钙钛矿可擦除圆偏振图案化器件及其制备方法”的专利，公开号CN122648083A，申请日期为2026年5月。
专利摘要显示，本发明公开了一种微型高精度钙钛矿可擦除圆偏振图案化器件及其制备方法。所述微型高精度钙钛矿可擦除圆偏振图案化器件，从上到下依次包括如下结构：胆甾相液晶层、透明分隔层、发光图案层、基板。本发明所述微型高精度钙钛矿可擦除圆偏振图案化器件，利用飞秒激光的超高峰值强度，结合激光直写系统的数字处理特性，在钙钛矿薄膜上指定区域实现高精度的微型图案化，该图案仅在荧光可见，并且在经过热处理后，图案消失；同时具有高精度和优异的荧光特性，在信息加密、光开关以及多重防伪等领域具有广泛的应用前景。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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