北京
国家知识产权局信息显示，沈阳旌旗新材料有限公司取得一项名为“一种薄膜蚀刻装置”的专利，授权公告号CN224698243U，申请日期为2025年9月。
专利摘要显示，本实用新型提供了一种薄膜蚀刻装置，薄膜蚀刻装置对薄膜本体进行蚀刻加工，薄膜蚀刻装置包括：蚀刻箱、通口、第一升降机构、第一升降架、喷淋管、水泵、第一连通管、第二连通管、密封圈和支撑辊；通过使第一升降机构带动第一升降架上下移动，并将喷淋管安装在第一升降架的底部，以实现调节喷淋管与薄膜本体之间的距离，从而实现既能增大喷淋管与薄膜本体之间的距离，以降低薄膜本体依次穿过两个通口的难度，还能通过缩小喷淋管与薄膜本体之间的距离，以确保蚀刻液能够喷射至薄膜本体上，以提升蚀刻液的利用率。
天眼查资料显示，沈阳旌旗新材料有限公司，成立于2019年，位于沈阳市，是一家以从事批发业为主的企业。企业注册资本500万人民币。通过天眼查大数据分析，沈阳旌旗新材料有限公司财产线索方面有商标信息5条，专利信息2条，此外企业还拥有行政许可5个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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