北京
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国家知识产权局信息显示，应用材料公司申请一项名为“具有独立控制以提高WIW均匀性的硬件设计”的专利，公开号CN122663328A，申请日期为2024年11月。
专利摘要显示，一种用于将工艺气体提供到真空工艺腔室的处理容积中的挡板，此挡板包括：主体，所述主体具有可连接到气源的第一端及远离此第一端的第二端，此第二端包括至少一第一截头圆锥形表面及围绕此第一截头圆锥形表面延伸的第二截头圆锥形表面，以及从此近端延伸到此远端的外表面；第一气体进料通道，所述第一气体进料通道从此近端向此主体内延伸，此第一气体进料通道设置在此主体内；至少一个第一排出通道，所述第一排出通道从此第一气体进料通道的此远端延伸且穿过此第一截头圆锥形表面开口；至少一个第二气体进料通道，所述第二气体进料通道从此主体的此近端向此主体内延伸，此第二气体通道设置在此主体内且与此第一气体进料通道流体隔离。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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