北京
国家知识产权局信息显示，芯恩（青岛）集成电路有限公司申请一项名为“一种反应腔室中托盘偏移修正方法”的专利，公开号CN122622637A，申请日期为2026年5月。
专利摘要显示，本发明公开了一种反应腔室中托盘偏移修正方法，包括获得表面具有设定膜层的晶圆并检测设定膜层的初始厚度；将晶圆置于待测腔室中的托盘上，驱动托盘带动晶圆旋转，并控制边缘气道向晶圆的边缘区域喷射反应气体，以刻蚀晶圆上边缘区域的设定膜层；检测晶圆上刻蚀后的设定膜层的膜层厚度；根据膜层厚度和初始厚度的差值，确定托盘的偏移信息，以根据偏移信息对托盘的位置调整。本申请中仅需要进行常规的化学腐蚀过程即可对托盘位置的偏移进行修正，无需对反应腔室进行冷腔，在很大程度上缩短托盘偏移修正所耗费的时间成本，有效保证反应腔室的工作效益。
天眼查资料显示，芯恩（青岛）集成电路有限公司，成立于2018年，位于青岛市，是一家以从事其他制造业为主的企业。企业注册资本1006720.789212万人民币。通过天眼查大数据分析，芯恩（青岛）集成电路有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目193次，财产线索方面有商标信息15条，专利信息1115条，此外企业还拥有行政许可57个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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