北京
国家知识产权局信息显示，深圳市一博科技股份有限公司申请一项名为“一种隔层参考控阻抗的挖空扫描方法”的专利，公开号CN122622110A，申请日期为2026年5月。
专利摘要显示，本发明涉及一种隔层参考控阻抗的挖空扫描方法，应用于包含表层走线层、中间铜箔层和参考地平面层的板叠层结构，包括：保持走线宽度为原设计线宽不变，将中间铜箔层挖空区域的单边扩展量设为参数化变量进行扫描仿真，在满足加工可靠性约束的前提下确定目标挖空扩展量；固定该目标挖空扩展量，将走线单边缩小量设为新的参数化变量进行扫描仿真，选择使阻抗最接近目标值的目标线宽缩小量；按上述设计，走线宽度调整为原设计线宽减去两倍的目标线宽缩小量。本发明通过两步顺序扫描，先在工艺约束内通过挖空扫描使阻抗逼近目标值，再以线宽微调补偿残余偏差，解决了仅增大挖空宽度无法精确达到目标阻抗的问题。
天眼查资料显示，深圳市一博科技股份有限公司，成立于2003年，位于深圳市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本20953.6201万人民币。通过天眼查大数据分析，深圳市一博科技股份有限公司共对外投资了8家企业，参与招投标项目72次，财产线索方面有商标信息3条，专利信息387条，此外企业还拥有行政许可17个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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