北京
国家知识产权局信息显示，杭州广立微电子股份有限公司申请一项名为“一种监测有源区工艺均匀性的测试结构和测试方法”的专利，公开号CN122592733A，申请日期为2026年4月。
专利摘要显示，本申请提供一种测有源区工艺均匀性的测试结构和测试方法，测试结构中，第一测试单元包括第一有源区和第一栅极，第一有源区经轻掺杂漏离子注入处理，第一栅极相对于第一有源区具有两个预设偏移方向，沿每一个预设偏移方向，设置至少两个偏移量不同的第一测试单元，第一有源区沿第一栅极偏移方向的一侧接出测试；第二测试单元包括第二有源区和第二栅极，第二有源区经轻掺杂漏离子注入处理，且对第二有源区实施待监测工艺，第二栅极相对于第二有源区具有两个预设偏移方向，且沿每一预设偏移方向，设置至少两个偏移量不同的第二测试单元，第二有源区沿第二栅极偏移方向的一侧接出测试。通过本申请，可以快速判断有源区待监测工艺的均匀性。
天眼查资料显示，杭州广立微电子股份有限公司，成立于2003年，位于杭州市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本20028.1088万人民币。通过天眼查大数据分析，杭州广立微电子股份有限公司共对外投资了20家企业，参与招投标项目52次，财产线索方面有商标信息98条，专利信息269条，此外企业还拥有行政许可58个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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