北京
国家知识产权局信息显示，广州新锐光掩模科技股份有限公司申请一项名为“一种改善掩模版显影缺陷的方法”的专利，公开号CN122592720A，申请日期为2026年7月。
专利摘要显示，本发明提供了一种改善掩模版显影缺陷的方法。该方法包括：显影液流经导流板的表面形成水幕，覆盖于掩模版表面，使所述显影液与光刻胶反应，进行显影；所述导流板经过预处理得到；预处理的方式包括：将导流板进行降低表面粗糙度处理和提升表面亲水性处理。本发明的方法优化了显影导流板的表面特性，减少显影制程中生成的颗粒物附着在掩模版表面，以此降低光掩模缺陷的发生率，提高产品良率，满足产品生产要求；该方法可用于硅基半导体晶圆、第三代半导体功率器件和光掩模板制造过程，优化了集成电路制造工艺。
天眼查资料显示，广州新锐光掩模科技股份有限公司，成立于2021年，位于广州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本100000万人民币。通过天眼查大数据分析，广州新锐光掩模科技股份有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目354次，财产线索方面有商标信息15条，专利信息48条，此外企业还拥有行政许可65个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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