北京
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国家知识产权局信息显示，南宁桂电电子科技研究院有限公司;桂林电子科技大学申请一项名为“一种基于颗粒掩膜约束帧差分的颗粒运动强度表征方法”的专利，公开号CN122574015A，申请日期为2026年5月。
专利摘要显示，本发明公开了一种基于颗粒掩膜约束帧差分的颗粒运动强度表征方法，属于颗粒物料图像处理与实验‑仿真对照分析技术领域。该方法选取颗粒运动图像序列中目标时刻及后续时刻的两帧图像，进行相同ROI裁剪、灰度转换和颗粒区域提取，并将两帧颗粒掩膜取并集作为有效计算区域；在该区域内计算灰度差分幅值，经第一次百分位稳健归一化、非颗粒区域无效化、近邻填充与平滑以及第二次百分位稳健归一化，得到颗粒运动强度场。该方法无需单颗粒追踪或传统互相关速度矢量求解，能够稳定表征密集、湿颗粒或遮挡颗粒体系中的运动区域及强弱分布，并可与离散元仿真速度场、接触数场和力链场进行时序对照。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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