辽宁
首尔高等法院的一纸判决，再次震动韩国半导体业界：曾在SK海力士任职的员工，因将芯片尖端技术泄露给中国公司，二审依然被判处实刑。
据韩国媒体8月9日报道，首尔高等法院刑事10-1部对涉嫌违反《产业技术保护法》《不正当竞争防止法》及业务背信罪的A某，判处有期徒刑1年6个月。
A某曾在SK海力士中国境内法人工作。2022年，他擅自泄露并使用了公司CIS（CMOS图像传感器）相关尖端技术和营业秘密——这是把光线转换成数字信号的半导体核心器件。
更引人关注的是，A某的跳槽对象。据法院查明，他是在接到中国最大通信设备企业华为旗下半导体公司海思等发出的入职邀请后，实施了上述行为。
二审法院在判决书中直言：如果从轻处罚这类侵权犯罪，企业就会失去投入技术研发的动力，海
图1：SK海力士工厂外景资料图外竞争对手以引进人才为名、轻易夺取我国企业技术的情况将被放任。
这已经不是韩国第一次出现此类案件。此前LG显示两名前员工因向中国竞争对手泄露OLED核心技术，一审已被判处实刑，其中一人获刑5年。
从产业背景看，我国半导体产业近年来快速崛起，CIS图像传感器、存储芯片等领域的技术差距不
图2：SK海力士半导体芯片特写断缩小，对全球人才的需求也随之增长。
韩媒普遍认为，尖端技术人才流动背后，是两国半导体产业链竞争的白热化。韩国企业一边向中国出口芯片，一边严防核心技术外流，处境颇为微妙。
韩国司法部门近年的态度明显趋严。《产业技术保护法》修订后，窃取国家核心技术的行为最高可判无期徒刑，法院对涉及中国的技术泄密案件量刑明显加重。
有韩国产业人士评论称，技术竞争的本质是人才竞争，仅靠刑事处罚难以根治，企业需要在薪酬
图3：SK海力士存储芯片与晶圆与发展空间上与竞争对手真正较量。
这场判决也给我国企业提了个醒：吸纳国际人才必须依法合规，尊重知识产权，才能在全球化竞争中走得更远。
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
