北京
国家知识产权局信息显示，聚光科芯（杭州）光电子科技有限公司申请一项名为“基于垂直耦合腔与Vernier效应选模的激光器”的专利，公开号CN122512226A，申请日期为2026年5月。
专利摘要显示，本发明涉及半导体激光器技术领域，具体为基于垂直耦合腔与Vernier效应选模的激光器，包括衬底、底部反射镜、垂直耦合腔链、顶部输出窗口、横向光学限制结构及电学串联结构；所述垂直耦合腔链设于所述底部反射镜远离所述衬底的一侧，由N个依次堆叠的腔单元组成，N≥3；每个所述腔单元包括增益单元、隧道结及部分反射层，所述隧道结设于所述增益单元与所述部分反射层之间，相邻两个所述腔单元通过所述部分反射层实现弱耦合，且各腔单元的几何长度设计满足Vernier效应共振条件；本发明克服现有技术中传统VCSEL“短腔宽线宽、长腔多模跳模、输出效率低、选模能力弱”的核心问题。
天眼查资料显示，聚光科芯（杭州）光电子科技有限公司，成立于2024年，位于杭州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本500万人民币。通过天眼查大数据分析，聚光科芯（杭州）光电子科技有限公司共对外投资了3家企业，专利信息20条。
声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。
本文源自：市场资讯
作者：情报员
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
