北京
国家知识产权局信息显示，浙江罗克光电科技有限公司申请一项名为“一种光刻掩膜基板及其制备方法”的专利，公开号CN122506770A，申请日期为2026年5月。
专利摘要显示，本发明涉及半导体材料加工技术领域，具体为一种光刻掩膜基板及其制备方法。本发明克服了传统抛光中表面缺陷密度高、杂质易残留的问题。将预清洗基板置于双面抛光机中，采用聚丙烯酸包覆的改性氧化铈核壳磨料进行多阶段精密抛光，通过升温与降压的动态协同实现从粗抛到精抛的面形软化过渡，在保障高去除率的同时降低深层机械损伤；使用含有柠檬酸络合剂的复合腐蚀液进行高频振动腐蚀，选择性去除亚表面微裂纹并防止金属杂质二次沉积；采用添加有非离子表面活性剂和有机碱的低张力纳米胶体二氧化硅抛光液进行超光滑终抛光，并利用含有磁性响应氧化石墨烯的清洗液结合外加磁场进行深度清零清洗，显著提升了基板的表面平整度。
天眼查资料显示，浙江罗克光电科技有限公司，成立于2009年，位于嘉兴市，是一家以从事非金属矿物制品业为主的企业。企业注册资本4500万人民币。通过天眼查大数据分析，浙江罗克光电科技有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目17次，财产线索方面有商标信息6条，专利信息92条，此外企业还拥有行政许可18个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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