北京
智通财经获悉，蔡司半导体制造技术部门负责人Frank Rohmund在接受采访时明确表示，公司有信心满足激增的需求，并已启动“真正的、长期的”产能扩建项目。这场扩张不仅关乎蔡司自身的业绩增长，更直接决定着全球最先进芯片制造的产能上限。为全球唯一极紫外(EUV)光刻机制造商阿斯麦(ASML.US)提供核心光学系统的德国蔡司集团(ZEISS)，正以一场果断的产能扩张和长达15年的技术路线图，回应市场对AI芯片供应链瓶颈的普遍担忧。
产能扩张：从奥伯科亨到全球布局，为“长期需求”筑基
面对激增的需求，投资者此前普遍担忧阿斯麦及其供应链(尤其是蔡司)可能因产能瓶颈而拖累整个半导体行业的发展。对此，Rohmund明确表示公司有信心应对挑战。
面对AI芯片需求的指数级增长，蔡司半导体部门已率先启动了实质性的产能扩建。据Rohmund介绍，蔡司已对其位于德国奥伯科亨(Oberkochen)的总部进行了扩建，旨在优化现有空间并扩大生产规模。同时，该部门还在蔡司的另一处厂址建设一座全新的工厂，并明确表示如有需要，还可进一步扩建。Rohmund强调：“就产能扩张而言，这些才是真正的、长期的项目。”
这一扩张行动直接回应了投资者的核心关切。此前，市场普遍担忧随着台积电、英特尔、三星和美光等芯片制造商竞相建设芯片生产设施，阿斯麦及其关键供应商(如蔡司)可能无法跟上步伐。蔡司的主动扩产，旨在消除这一供应链瓶颈的隐患。
与此同时，阿斯麦自身也在以“半导体设备行业罕见的速度”扩大产能。据4月报道，阿斯麦预计2026年至少量产60台EUV光刻机，较2025年大幅增长，下一阶段年产能将进一步提升至至少80台。为缓解产能瓶颈，阿斯麦已在美国、德国、韩国扩充无尘车间产能，并计划在荷兰总部附近新建产业园区。蔡司作为其光学组件的独家合作伙伴，正是这一全球产能扩张网络中承上启下的关键一环。
这一布局与阿斯麦的扩产计划紧密同步。今年7月，阿斯麦宣布计划大幅提高其EUV光刻机的产能，以满足2028年大量积压的订单。两家公司的扩产节奏高度一致，显示出双方对AI驱动下的长期需求具备极强的信心。
技术纵深：从High NA到Hyper NA，共绘EUV路线图
蔡司与阿斯麦的合作远不止于满足当前需求，双方已锁定了未来十年的技术路线。目前，阿斯麦出货的最先进光刻机采用High NA(0.55NA)光学系统，分辨率为8nm。而早在2025年6月，阿斯麦技术高级副总裁Jos Benschop就已宣布，已与蔡司共同启动了单次曝光实现5nm分辨率的Hyper NA光刻机开发。该项目开发目标是将数值孔径(NA)进一步提升到0.7乃至更高，以满足2035年乃至更后阶段的产业需求。
Rohmund透露，双方已制定了一份目标延伸至“2040年左右”的共同规划。这意味着，在可预见的未来，蔡司的光学系统将持续定义芯片制造精度的天花板。
财务引擎：半导体部门已成集团增长核心
EUV光刻机被誉为现代半导体制造的“印钞机”，而蔡司提供的超光滑反射镜则是这台机器的“眼球”。这些反射镜的制造精度达到原子级别，据蔡司称，如果将其倾斜角度用于“将激光束重新定向并瞄准月球，它甚至能够击中月球表面的乒乓球”。正是这种极致的光学技术，使得蔡司的零部件在全球约80%的芯片生产中发挥了关键作用。
蔡司半导体部门的战略重要性，在其财务数据中体现得淋漓尽致。随着AI大模型训练与推理对算力的渴求，芯片制造商正竞相抢购EUV设备，直接推高了蔡司半导体部门的订单与营收。该部门的强劲表现，也使其成为蔡司集团同期近120亿欧元总营收的最大贡献者。此前有德媒报道，在蔡司的年营业额中，有近三分之一来自半导体业务。
展望未来，Rohmund预计，得益于超大规模数据中心运营商的投资，今年公司业绩将实现“显著增长”。在蔡司新的五年战略中，AI驱动的数字化转型和数据智能已被定位为核心主题。
尽管前景广阔，深耕光学近180年的蔡司依然保持着德国企业特有的审慎——半导体行业的周期性不可忽视。 在蔡司工作近25年的物理学家Rohmund对此保持清醒。他提醒道：“迟早，很可能会出现某种程度的调整。”他补充道：“我们是德国人，我们总是很谨慎，从不轻易乐观。”
本文源自：智通财经网
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