北京
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国家知识产权局信息显示，河北石艺达建筑材料有限公司申请一项名为“基于原位生成与界面阻隔技术的纳米复合结构胶及其制备工艺”的专利，公开号CN122483737A，申请日期为2026年7月。
专利摘要显示，本发明提供基于原位生成与界面阻隔技术的纳米复合结构胶及其制备工艺，该结构胶包括A组分和B组分。其制备工艺关键在于：首先对纳米二氧化硅进行硅烷偶联剂表面修饰；随后在基体树脂中，使钛酸酯前驱体在可控条件下水解缩合，原位生成纳米二氧化钛；利用修饰后二氧化硅表面官能团与新生二氧化钛之间的特异性相互作用，驱动二氧化硅颗粒迁移并包裹于二氧化钛外围，形成核‑屏障复合结构。通过所述方法制得的结构胶，兼具高透明度、优异力学强度以及稳定的光催化自清洁功能，同时其内部的界面阻隔设计有效抑制了光催化剂对树脂基体的降解，从而实现了卓越的长期耐候性。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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