北京
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国家知识产权局信息显示，应用材料股份有限公司申请一项名为“使用直选区域处理于基底应力管理”的专利，公开号CN122498272A，申请日期为2024年11月。
专利摘要显示，一种方法可包括提供具有主表面的基底；以及在主表面上形成图案化应力补偿层，其中通过在处理束相对于主表面进行移动的同时将主表面暴露于处理束来形成图案化应力补偿层。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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