北京
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国家知识产权局信息显示，应用材料以色列公司申请一项名为“测量半导体试样上积累的污染”的专利，公开号CN122498286A，申请日期为2024年10月。
专利摘要显示，一种监视系统，用于监视检查工具测量的影响试样临界尺寸的污染程度。所述系统包括一个与所述检查工具操作连接的处理器。所述处理器被配置为获取多个测量周期，每个测量周期包括在所述检查工具的腔室内容纳所述试样时所述试样图案临界尺寸（CD）的测量。这些测量周期是以离散的时间间隔进行的，这样循序的测量周期就会受到所述CD测量值变化的影响。所述处理器的进一步配置是将所述污染程度确定为所述CD测量值直线近似值梯度的函式。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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