北京
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国家知识产权局信息显示，上海视光微电子工程有限公司申请一项名为“一种基于静电聚焦的颗粒污染标准晶圆图案化喷涂制备系统及方法”的专利，公开号CN122479911A，申请日期为2026年4月。
专利摘要显示，本发明公开了一种基于静电聚焦的颗粒污染标准晶圆图案化喷涂制备系统、方法及标准晶圆。所述系统包括喷涂模块和静电模块，静电模块包括环绕喷嘴设置的金属聚焦环及其电源系统。喷涂时，将荷电气溶胶通入系统，调节流速、聚焦环与喷嘴和晶圆的关键间距，在聚焦环与接地晶圆平台间施加直流电压以形成汇聚静电场，使喷出的带电纳米颗粒在电场力聚焦下，在晶圆上沉积形成图案清晰、分布均匀的图案化区域。通过调节电压、间距等参数，可精确控制图案尺寸与沉积密度，并可实现多粒径集成制备。本发明实现了图案的高精度、高清晰度与沉积数量的高重复性控制，工艺灵活高效。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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