北京
国家知识产权局信息显示，中芯集成电路（宁波）有限公司申请一项名为“声表面波器件及其制造方法”的专利，公开号CN122475659A，申请日期为2026年5月。
专利摘要显示，一种声表面波器件及其制造方法，制造方法包括：提供压电衬底；在压电衬底上形成第一金属层；在第一金属层上形成具有第一图案的第一光刻胶层，第一图案暴露出第一金属层上待形成第二金属层的区域；沉积第二金属层；执行剥离工艺，以去除第一光刻胶层及其上的第二金属层，并保留位于暴露的第一金属层区域上的第二金属层；形成具有第二图案的第二光刻胶层，第二图案覆盖保留下的第二金属层且暴露出第一金属层中待刻蚀去除的区域；对暴露出的第一金属层中待刻蚀去除的区域进行刻蚀，以形成包含第一金属层与第二金属层的叠层电极结构。本申请规避了第二金属层在刻蚀工艺中因产物难挥发导致的工艺瓶颈，实现了第一金属层与第二金属层的有效叠层组合。
天眼查资料显示，中芯集成电路（宁波）有限公司，成立于2016年，位于宁波市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本473304.347718万人民币。通过天眼查大数据分析，中芯集成电路（宁波）有限公司参与招投标项目37次，财产线索方面有商标信息71条，专利信息552条，此外企业还拥有行政许可22个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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