北京
国家知识产权局信息显示，上悦（上海）印刷有限公司申请一项名为“一种电子面单审核模式配置方法、设备及介质”的专利，公开号CN122472694A，申请日期为2026年5月。
专利摘要显示，本发明公开了一种电子面单审核模式配置方法、设备及介质，涉及电子商务技术领域，包括：包括：获取当前电子面单业务数据、历史电子面单数据及历史履约数据，生成稳定配置指纹并建立修复候选片段库；构建业务相似连续序列，提取自然演变轨迹边界和主体节律基线；计算连续性裂缝形态判据，确定裂缝位置类型、主裂缝片段索引和裂缝侧向类型；执行最小修复扰动验证，生成唯一审核模式并输出审核结论；根据真实履约反馈更新自然演变轨迹边界、主体节律基线和修复顺序。本发明可实现对异常电子面单的连续性裂缝识别、自适应修复验证和闭环迭代更新，从而提高审核模式配置的针对性、准确性及稳定性。
天眼查资料显示，上悦（上海）印刷有限公司，成立于2001年，位于上海市，是一家以从事印刷和记录媒介复制业为主的企业。企业注册资本1818.1818万人民币。通过天眼查大数据分析，上悦（上海）印刷有限公司共对外投资了4家企业，专利信息68条，此外企业还拥有行政许可25个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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