北京
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国家知识产权局信息显示，湖北工程学院;湖北中一科技股份有限公司申请一项名为“一种大功率用超厚电解铜箔及其制备方法和应用”的专利，公开号CN122446283A，申请日期为2026年5月。
专利摘要显示，本发明公开了一种大功率用超厚电解铜箔及其制备方法和应用，其中，大功率用超厚电解铜箔属于双层复合结构，由超厚电解铜箔基体层和碳化钨掺杂铜复合表层组成。所述超厚电解铜箔基体层为梯度晶粒结构，由表层细晶粒、内层过渡晶粒和底层柱状晶组成，所述碳化钨掺杂铜复合表层结合在所述超厚电解铜箔基体层的表层。本发明通过多技术协同构建了“基体性能优化+表面改性强化”的双层结构超厚铜箔，从电解沉积、晶相调控到表面改性全流程解决现有超厚铜箔的制备与性能瓶颈，实现各核心性能的同步提升。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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