北京
国家知识产权局信息显示，理想晶延半导体设备（上海）股份有限公司、理想晶延半导体设备（浙江）有限公司取得一项名为“一种用于钝化镀膜设备的加热系统及钝化镀膜设备”的专利，授权公告号CN224531030U，申请日期为2025年8月。
专利摘要显示，本申请涉及钝化镀膜设备领域，提供一种用于钝化镀膜设备的加热系统及钝化镀膜设备。加热系统包括第一加热组件和第二加热组件，第一加热组件和第二加热组件同轴设置于反应腔室内部，且第一加热组件相对位于若干料盒的外侧，第二加热组件相对位于若干料盒的内侧。钝化镀膜设备包括反应腔室、底盘、加热系统和若干料盒，料盒内设有若干具有两个相对设置切割面的电池片。本申请的第一加热组件和第二加热组件环绕设置于料盒内外两侧，形成双向辐射加热场，彻底打破原有“外高内低”的温度梯度，实现从料盒外缘至中心区域的温度均匀分布，进而确保所有电池片的切割面处于相同工艺温度，避免因温差导致的膜厚差异、应力裂纹或钝化效果不一致。
天眼查资料显示，理想晶延半导体设备（上海）股份有限公司，成立于2013年，位于上海市，是一家以从事电气机械和器材制造业为主的企业。企业注册资本5734.831万人民币。通过天眼查大数据分析，理想晶延半导体设备（上海）股份有限公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目24次，财产线索方面有商标信息22条，专利信息137条，此外企业还拥有行政许可19个。
理想晶延半导体设备（浙江）有限公司，成立于2022年，位于嘉兴市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本4500万人民币。通过天眼查大数据分析，理想晶延半导体设备（浙江）有限公司专利信息32条，此外企业还拥有行政许可10个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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