北京
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有投资者在互动平台向拓荆科技提问：“公司的ald设备是采用臭氧路径吗？主要用于存储芯片制造吗？”
针对上述提问，拓荆科技回应称：“感谢您对公司的关注。公司ALD系列产品包括PE-ALD（等离子体增强原子层沉积）和Thermal-ALD（热处理原子层沉积）设备产品，可沉积多种介质、金属及金属化合物等薄膜工艺，不同ALD工艺所采用的反应源不同，包括但不限于臭氧。公司ALD设备已在存储芯片、逻辑芯片及先进封装等领域广泛应用，谢谢！”
本文源自：市场资讯
作者：公告君
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