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国家知识产权局信息显示，梅耶博格（德国）有限公司申请一项名为“用于真空沉积的系统和方法”的专利，公开号CN122374493A，申请日期为2024年12月。
专利摘要显示，本发明涉及一种层沉积系统，该层沉积系统特别是用于在等离子体辅助沉积系统中经由部分地遮蔽基板载体上的基板，特别是太阳能晶片的掩模来对至少一个局部化层进行沉积。本发明还涉及一种用于在真空沉积工艺中在晶片状基板上对局部化层图案进行沉积的方法和系统。本发明包括一种层沉积系统，该层沉积系统特别地旨在用于在等离子体辅助沉积系统中对至少一个局部化层进行沉积，其中层沉积系统包括用于接纳至少一个太阳能晶片基板的可移动基板载体，该可移动基板载体旨在用于在装载站和沉积站之间运输至少一个基板和对基板进行掩蔽的至少一个掩模，其中可移动基板载体和/或掩模具有磁场，其中基板载体上的基板和掩模能够被布置成彼此精确地对齐，并且其中掩模通过磁场磁性地附着。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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