北京
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国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“用于确定带电粒子束大小的方法和样品”的专利，公开号CN122374864A，申请日期为2024年12月。
专利摘要显示，用于确定束斑大小的样品和方法，包括利用带电粒子束扫描样品上的图案以生成图像。该图案可以包括至少一个倾斜侧边缘和顶面。至少一个倾斜侧边缘可以具有在样品的制造期间被控制为在约40至80度之间的倾斜角。束斑大小可以基于至少一个倾斜侧边缘的成像轮廓来被确定，成像轮廓基于所述图像被得出。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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