北京
国家知识产权局信息显示，成都虹波实业股份有限公司申请一项名为“多晶粒尺寸复合的基片镀膜复合材料及其PVD制备方法”的专利，公开号CN122358144A，申请日期为2026年6月。
专利摘要显示，本发明公开了一种多晶粒尺寸复合的基片镀膜复合材料及其PVD制备方法，属于PVD制备方法的技术领域。所述制备方法包括：通过具有等距分布的三靶位连续式磁控溅射装置对离子源清洗后的基片进行镀膜材料沉积；其中，三个靶位的靶间距为60‑250mm，靶基距为80‑100mm，溅射电流依次为2‑5A、8‑20A、2‑5A，对应形成低功率溅射层、高功率溅射层、低功率溅射层及自然过渡的溅射区域。本发明可同时提高多膜层复合材料的膜层质量和沉积效率，实现高质量膜层的高效、连续化生产，获得结构致密、无明显界面层的多晶粒尺寸复合的基片镀膜复合材料。
天眼查资料显示，成都虹波实业股份有限公司，成立于1994年，位于成都市，是一家以从事通用设备制造业为主的企业。企业注册资本7204.29万人民币。通过天眼查大数据分析，成都虹波实业股份有限公司共对外投资了8家企业，参与招投标项目15683次，财产线索方面有商标信息4条，专利信息115条，此外企业还拥有行政许可49个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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