北京
国家知识产权局信息显示，浙江摩鼎纳米科技有限公司取得一项名为“弧光离子源增强磁控溅射装置”的专利，授权公告号CN224467899U，申请日期为2025年8月。
专利摘要显示，本实用新型涉及磁控溅射装置技术领域，并公开了弧光离子源增强磁控溅射装置，包括：镀膜箱；磁块，设置在镀膜箱的内底面；靶材，设置在磁块的上方，用于提供离子清洗和沉积薄膜的材料；连接件，共同固定连接在磁块和靶材之间，所述连接件包括背板盒和盖板；冷却组件，设置在背板盒的内部，用于带走靶材轰击过程中产生的热量。本方案采用冷却管一与冷却管二交错布置并相向流动的方式，使热量在两管间相互传递，显著降低了背板两侧温差，提高了冷却均匀性和散热效率，同时，冷却管采用卡扣式可调固定结构，便于安装与维护，提升了系统的灵活性和可操作性，整体设计能够减少热应力变形，提升薄膜沉积的一致性和设备运行的可靠性。
天眼查资料显示，浙江摩鼎纳米科技有限公司，成立于2006年，位于杭州市，是一家以从事通用设备制造业为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析，浙江摩鼎纳米科技有限公司参与招投标项目2次，专利信息23条，此外企业还拥有行政许可3个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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