北京
国家知识产权局信息显示，芯联越州集成电路制造（绍兴）有限公司申请一项名为“梳齿结构的制备方法及MEMS微镜”的专利，公开号CN122343950A，申请日期为2026年4月。
专利摘要显示，本发明提供了一种梳齿结构的制备方法及MEMS微镜，属于半导体领域。该梳齿结构的制备方法包括以图形化的掩模层为掩模对基底进行刻蚀，形成梳齿结构，所述梳齿结构沿第一方向排列，并沿第二方向延伸，所述第一方向和所述第二方向相互交叉，且所述第一方向和第二方向所在的平面与所述基底平行，所述梳齿结构的外围形成有补偿部，所述补偿部覆盖在所述梳齿结构沿第二方向延伸的端部，以及所述梳齿结构沿第一方向排列的外侧壁。本发明通过在去除硅草结构之前，对梳齿结构进行优化处理，在梳齿结构的端部形成补偿部，从而在去除硅草结构时，能够通过补偿部对梳齿结构进行保护，边缘梳齿的底部的关键尺寸不会过小，避免了边缘梳齿断裂的风险。
天眼查资料显示，芯联越州集成电路制造（绍兴）有限公司，成立于2021年，位于绍兴市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本398282.0957万人民币。通过天眼查大数据分析，芯联越州集成电路制造（绍兴）有限公司参与招投标项目72次，专利信息174条，此外企业还拥有行政许可26个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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