北京
国家知识产权局信息显示，浙江富西光电制造有限公司申请一项名为“纳米压印模板及其制备方法”的专利，公开号CN122331202A，申请日期为2026年4月。
专利摘要显示，本发明涉及一种纳米压印模板及其制备方法。纳米压印模板的制备方法包括：提供第一基底；第一基底为无机非金属基底，且厚度为毫米级；对第一基底进行刻蚀，以形成具有原始压印图案的纳米压印母版；原始压印图案所在的区域为压印图案区域；在纳米压印母版上形成图案化的第一光刻胶层，图案化的第一光刻胶层至少暴露压印图案区域；在纳米压印母版上涂覆纳米压印胶，将位于压印图案区域内的凹槽完全填充；在纳米压印胶远离纳米压印母版的表面上粘接第二基底；对纳米压印胶进行固化处理；将第二基底与纳米压印母版分离，获得具有反转图案的纳米压印模板。如此，可以保障转印得到的纳米压印模板的图形精度，提高纳米压印模板的可重复压印寿命。
天眼查资料显示，浙江富西光电制造有限公司，成立于2023年，位于杭州市，是一家以从事电气机械和器材制造业为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析，浙江富西光电制造有限公司参与招投标项目5次，财产线索方面有商标信息18条，专利信息4条。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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