北京
国家知识产权局信息显示，浙江亿方杭创科技有限公司申请一项名为“缺陷族谱构建与归因系统、方法、设备、介质及程序产品”的专利，公开号CN122310156A，申请日期为2026年6月。
专利摘要显示，本申请提供一种缺陷族谱构建与归因系统、方法、设备、介质及程序产品，其中，缺陷族谱构建与归因系统包括多模态证据统一表征模块；异构关联图构建模块；族谱发现模块，被配置为基于异构关联图识别缺陷家族；族谱演化跟踪模块，被配置为监控缺陷家族的特征随生产批次的演化；证据化归因生成模块，被配置为基于异构关联图确定候选根因因子，确定支持候选根因因子的证据对象清单，生成包括候选根因因子及证据对象清单的结构化归因证据包。上述方案通过多模态证据统一表征、全芯片尺度异构关联图构建与跨批次对齐学习的协同，实现了缺陷家族在全芯片范围内的稳定发现与结构化归因，提升了缺陷族谱的跨批次一致性及归因结论的工程可验证性。
天眼查资料显示，浙江亿方杭创科技有限公司，成立于2023年，位于杭州市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本2000万人民币。通过天眼查大数据分析，浙江亿方杭创科技有限公司共对外投资了4家企业，参与招投标项目4次，财产线索方面有商标信息9条，专利信息8条。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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