北京
国家知识产权局信息显示，中国电建集团昆明勘测设计研究院有限公司取得一项名为“一种用于机场道面影响区新老填筑交接区域的地基处理结构”的专利，授权公告号CN224412225U，申请日期为2025年6月。
专利摘要显示，一种用于机场道面影响区新老填筑交接区域的地基处理结构，属于地基结构技术领域。该结构包括土工格栅、超挖换填层、边坡台阶、补强台阶和填筑层，在原填筑体顶面设置2‑4m的超挖换填层，原填筑体边坡上挖设边坡台阶，边坡台阶宽度不小于2m，每两级边坡台阶外侧填筑一层补强台阶，在补强台阶外侧再填充填筑层，填筑层顶部填至与超挖换填层顶部高程一致，在原填筑体和填充层顶面交接处铺设土工格栅，土工格栅在填充层和原填筑体的铺设宽度均为10‑15m，新建道面修建在超挖换填层和填筑层顶面。该结构提高新建道面地基基础的整体稳定性和可靠性，减少工后沉降和不均匀沉降，保障上部道面结构的安全。
天眼查资料显示，中国电建集团昆明勘测设计研究院有限公司，成立于1994年，位于昆明市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本160000万人民币。通过天眼查大数据分析，中国电建集团昆明勘测设计研究院有限公司共对外投资了55家企业，参与招投标项目40028次，财产线索方面有商标信息16条，专利信息2698条，此外企业还拥有行政许可324个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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