北京
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国家知识产权局信息显示，中国电子科技集团有限公司电子科学研究院申请一项名为“一种电磁射频谱纹生成方法及系统”的专利，公开号CN122262521A，申请日期为2026年2月。
专利摘要显示，本申请公开了一种电磁射频谱纹生成方法及系统，涉及电磁信号处理技术，包括：对连续一维原始电磁射频信号进行分段与加窗，以将长时非平稳的电磁射频信号转变为短时平稳的信号帧；计算信号帧的样本熵，并结合基于样本熵的权重修正进行改进STFT变换，以转换为时频幅度谱；从时频幅度谱中提取有效能量峰值，以及通过梯度偏置修正方法实现峰值的定位；根据分段提取并完成梯度偏置修正的电磁射频谱纹按照时间顺序堆叠，以完成电磁射频谱纹生成。本申请解决了传统方法中频谱泄露、时频特征辨识度低、峰值定位精度不足的问题，提升电磁射频信号时频特征提取的准确性与有效性。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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