北京
国家知识产权局信息显示，本源科仪（成都）科技有限公司申请一项名为“电路版图走线布局的局部调整方法、装置、介质及设备”的专利，公开号CN122221792A，申请日期为2024年12月。
专利摘要显示，本发明公开了一种电路版图走线布局的局部调整方法、装置、介质及设备。该方法包括：确定走线上的目标折点以及位于以目标折点所在第一线段和第二线段为相邻边的平行四边形区域内的位移点；保持第一线段和第二线段的连接关系和斜率不变，在目标折点初始位置与位移点的连线上移动目标折点，形成与第一线段平行且与第二线段连接的第三线段、与第二线段平行且与第一线段连接的第四线段；保持第二线段和第四线段的连接关系和斜率不变，将第三线段在法向上朝位移点移动，直至与位移点共线；保持第一线段和第三线段的连接关系和斜率不变，将第四线段在法向上朝位移点移动，直至与位移点共线。本发明能够在移动走线折点时实现相应线段的自动绘制和删除。
天眼查资料显示，本源科仪（成都）科技有限公司，成立于2021年，位于成都市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本2100万人民币。通过天眼查大数据分析，本源科仪（成都）科技有限公司专利信息111条，此外企业还拥有行政许可1个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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